GC-MS maintenance part 3

GC-MS is a really troublemaker, but all problems with GC-MS was solved!

Large amount of water (m/z = 28) was detected, thus molecular sieve was heated with dryer for more than 1h.  　(This article is written in only Japanese.)

こんにちは、日置です。

GC-MSの問題がすべて解決し、ようやく、約3週間ぶりに普通に使用できるようになりました。

前回書いたように、水（m/z = 28）が検出されるという問題が生じていました。

水は通常、GCのモレキュラーシーブ（下の写真）で除去されています。

 図：モレキュラーシーブ（赤矢印）

なので、モレキュラーシーブをドライヤーで加熱してみました。

モレキュラーシーブ内の水を除去するためです。

（シリカゲルを加熱して再利用するのと同じ話です。）

加熱すると、水がどんどん大量に検出されました。

モレキュラーシーブ内からあふれ出しているようです。

しかし、その後加熱を止めて放置しても中々水のピークは減少しません。

モレキュラーシーブを買い替えなければならないのか・・と思いましたが、

もう一度ドライヤーで1時間以上加熱し、オーブン内も100℃に保ち続けると、水（m/z = 28）は減少していきました。

ベースピークはPFTBA（参照物質, m/z = 6869）に戻りました。

これで無事にGC-MSを使うことが出来ます。

めでたし、めでたし。